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光刻设备・液晶面板

光刻相关设备

半导体接近用UV固化设备/半导体内存设备(光刻设备・液晶面板)

作为紫外线照射设备在LSI制造生产线和内存制造生产线有约700台的购入记录。

主要用途

  • ・驱动蚀刻时的耐等离子性的提高
  • ・去除电荷
  • ・离子注入时的固体脱气及烧结
  • ・绝缘膜的形成
  • ・化合物半导体脱离工序
  • ・CCD、CMOS截图
  • ・提高湿蚀刻性&镀金性
  • ・Low-kキュア

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光刻设备・液晶面板

紫外线光阻剂硬化/CHARGE ERASE装置「UNIHARD」(光刻设备・液晶面板)

紫外线照射装置,在LSI制造生产联机使用的紫外线阻剂固化、及电荷消除装置。 配备超高压UV灯与EXCIMER灯,应用在提升乾蚀刻时的耐电浆性、离子注入时的阻剂脱气与烧制、电荷消除、疲乏消除、及 Low-k Cure等各种用途。

主要用途

  • ・提高乾蚀时的耐电浆性
  • ・离子注入时的阻剂脱气及烧入
  • ・电荷消除与消除疲乏
  • ・Low-k Cure
  • ・薄膜磁头之层间绝缘膜形成
  • ・化合物半导体的Lift-Off工程
  • ・表面改质
  • ・CCD与CMOS影像仪的去色(bleaching)等

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光刻设备・液晶面板

UV剥离装置(光刻设备・液晶面板)

主要用途

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