牛尾长年开发经验，集光源・光学技术，采用独自的大面积投影镜头技术研发的背投式对准光刻设备。 到8英寸为止的晶片可在非接触下模式下也可以一起对准光刻曝光。 适用于深度焦点非平面晶片，实现接近式曝光为数不多的高生产性、高成品率。
搭载超高压UV灯
值得称赞的高度均一的照射光学系统
为数不多的大面积投影镜头
・IGBT
・分立器件
・MEMS
・LED
・水晶
・通信滤波器
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