• 高均一性照射

  由于基板问题变化而产生的变色减少。
  省略了周边四角的曝光

• Tack时间短

  利用光学Filter对光的控制技术，
  受损情况小，低温处理

• Mask对位机能

  能够和Pattern进行精度较高的对位，
  有效的曝光技术进行展开。

• 系统构成

  设备本体
  电源，控制面板
  循环冷却Unit（Lamp冷却用）
  Mask Work冷却用冷气机  

ODF设备（UV Curing）的构造

• 照射部

• Stage部

  
  

・适用于TFT-LCD液晶面板的贴合工艺
・将液晶面板贴合所用的Seal材料，通过UV紫外线的照射在较短时间内进行固化