RESEARCH
身为光源制造厂的Ushio，对以半导体与液晶步进机为首之曝光装置，提供高电源、高稳定的紫外线光源（UV灯）。 大面积投影曝光装置「UX系列」在开发曝光装置的同时，开始进行光源的开发，并采用可在所有的曝光装置上，完全发挥光学类特性的专用设计光源。
有效集中灯具放射的光源，可以高度均匀、高平行之方式照射遮罩的照明光学系统。于各个镜面实施特殊涂装，可执行曝光波长的选择与热线的阻隔。
Ushio的照明光学系统技术，源自于1960年开始的SPACE
CHAMBER用太阳能模拟器的开发，以高度的光学技术为起始。之后，对许多半导体与液晶用曝光装置提供照明光学系统，并提高曝光装置用光学系统的完成率。
「UX系列」的照明光学类，充分运用过去的专业知识与实绩，备有灯光输出或曝光波长相关的各种应用方案等，以提供适合制程的理想平行光投影光学系统。
Ushio注重遮罩与工件未接触之无遮罩风险的投影曝光方式，开发出过去难以做到的大面积与低扭曲变形之投影光学系统。
Ushio独特的投影镜头是具有曝光范围200mm、及解析度5μmL/S规格的低扭曲镜头的旗舰机种。最适用于多样化需求的光学设计，在维持较深的焦点深度下，开发出各种曝光面积与解析度之投影镜头，并推出系列产品。
检测伴随基板伸之类型伸缩，并自动调整投影倍率至最大±0.1%。问题在于伸缩较大的工作重合曝光，可防止重合偏移，以达到完美的选择与调整。
Ushio的大面积投影曝光装置，采用独特的「TTL非曝光波长校正」之自动校正功能。个别检测出遮罩与工作的校正记号，以分别经由影像处理固定在XY座标轴上执行对准位置的方式，具备如下的特徵。
對準工件位置
工件之位置調整
1. 整体涂铬的开口部较小遮罩，亦可经由个别观察遮罩与工 件，轻易发现工作记号。
2. 隔着遮罩观察并非降低亮度，而是可以清楚的记号执行校正。
3. 即使是在下述影响下亮度较低的记号，亦可通过照明方法的选择(亮视野/暗视野照明)与波长选择，提高目视确认性的效果。
位置調整目視確認性的例子
1. 即使无专用校正记号，亦可以影像辨识的方式，执行记录各种配线图案的校正。
2. 可配合校正记号，选择各种自动校正运算规则。(参考法、重心检测)
从晶圆、弹性基板、印刷基板等开始，备有适于各种工件之高精确度搬运系统。 此外，活用广泛曝光范围之全面曝光，更适用于面积工件之步进&重复曝光等，符合各种曝光需求的曝光台还支援有效率、稳定的处理。
