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电子零件用各种曝光装置

运用USHIO的光源・照明・光学・校正及搬运技术,实现高性能、高生产性、及低成本的电子零件用曝光装置。

具有适用于解析力3umL/S~20umL/S、及曝光区域φ100~300mm的各种类型(单面/双面、全部/部分等)。

特征

・光罩无损害
采用光罩与工作件非接触的「投影曝光方式」。
遮罩是半永久使用,因此降低运转成本、防止接线缺陷、并提高良品率。

・独特的回路比对方式校正
应用影像处理技术,以依回路比对方式的独特校正机构。
无须专用的校正记号,可依各种工作条件执行高精确度校正。

・较深的焦点焦度
通过焦点深度较深(±50~100μm)的投影镜片,
即使是有高低差异的基板或厚膜电阻,亦能执行锐利的类型描绘之曝光。

・适用各种作产品
硅晶圆、印刷基本、滚筒及玻璃基板,适用工作与应用软件的搬运系统。


主要用途

石英振荡子
感应装置
半导体与双向矽控整流器
电子回路基板(FPC、MCM等)
列印头光学元件
电阻与开关
材料开发等的实验用等

产品咨询

华北:18321128630(谭博)


华东:18321128630(谭博)


内陆:18321128630(谭博)


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测试机介绍

可实施曝光评估等各种测试。详情请洽询。
※无法适用部分要求内容,敬请见谅。

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